精度で見る | 極限の平面加工・平面研磨
テレビ、携帯電話、パソコン、PDA、様々な電子デバイスでフォトマスクの技術が用いられています。このフォトマスクでは、表面上に精細なパターンを生成するために限りなく平面に近い表面加工が必要です。ニット―ではこのフォトマスクの表面研磨をオングストロームのレベルで行っています。
フォトマスクとは？
フォトマスクとは、シリコンウエハーに回路を転写する際に用いられる材料です。フォトマスクには回路パターンが描かれ、光が当たるとその部分だけ遮光されます。フォトレジストを塗布されたシリコンウエハーは、光が当たった部分が露光、つまり化学変化を起こしアルカリ可溶性になります。それをアルカリ性の液で洗浄すると、化学変化を起こした部分はアルカリ性の液に溶け、回路の部分だけが彫りだされたようになります。いわば回路のネガフィルムにあたる機能を果たします。
半導体集積回路は高精細なパターンが必要
IT製品の軽量化・高性能化していくなかで、パネルや半導体の構造はますます複雑になり、フォトマスクにも高精細なパターン形成が求められています。
そのパターン幅は、数十ナノメートル。この微細なパターンが、きちんと転写されず、途切れたり、ゆがんだりするなどの不備があるとデバイスそのものの性能に影響を与えます。
このため、フォトマスクの回路パターンはパターン自体の生成に、高度な技術が用いられています。
パターン生成には限りなく平面にちかい表面が必要。
このフォトマスクのパターン生成には、限りなく平面に近い表面が必要になります。例えば、表面が傾斜していたり、でこぼこだったら、回路図のパターンが途切れたりゆがんだりして、基板に高精細なパターンを転写することが出来なくなるからです。
フォトマスクがでこぼこの場合
もしもパターン生成に必要なフォトマスクの表面がでこぼこだったら
表面に線を引いた場合、凹凸の分だけ、引きたい長さに狂いが生じる。
転写された基板に狂いが生じる。
フォトマスクが平らな場合
もしもパターン生成に必要なフォトマスクの表面が平らならば、
表面に線を引いた場合、正確な線を引くことが出来る。
設計どおりの正確な線が基板に転写される。
ここで役立つ！ニットーの精度
ニット―の表面加工は1000万分の1ミリ
これまでの説明を見て分かるとおり、フォトマスクは限りなく平面に近い表面が必要になります。ニットーの精度は表面粗さで１オングストローム。
1オングストロームは1000万分の1ミリメートル。極限の平面で全くゆがみがない状態です。
この精度を大型のガラス基板に対しても出すことができるのがニットーの技術です。
フォトマスク
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